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SK海力士拟2028年前将High-NA EUV引入DRAM量产

据报道,SK海力士计划在2028年前将High-NA EUV光刻设备引入DRAM量产,以推进更先进制程并巩固其在HBM等高附加值存储领域的领先地位。此举意味着资本开支与技术门槛进一步抬升,若执行顺利,有助于公司在下一代存储竞赛中保持优势,对中长期股价构成正面支撑,但短期设备投资与折旧压力仍需观察。

影响判断由模型基于公开报道给出,仅为参考,不构成投资建议。

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  • 超能网 · 09-11 19:35 KST

    SK海力士计划2028年率先将High-NA EUV用于DRAM量产,美光尚未确定时间表。此举有望降低单位成本、巩固高端存储技术领先,但资本开支与良率风险并存,短期对股价影响偏中性。