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中关注2026-09-14短期 · 中性中长期 · 偏利好

ASML High NA 光刻机获客户采用,巩固主导地位

ASML 宣布其 High NA EUV 光刻机获得客户采用,进一步巩固在先进芯片制造设备领域的主导地位。High NA 设备对 2 纳米以下逻辑芯片及下一代 DRAM 至关重要,SK 海力士等存储厂商未来需依赖该设备推进制程。短期对股价影响有限,但长期看,设备供应集中可能影响存储厂商的资本开支节奏与议价能力。

影响判断由模型基于公开报道给出,仅为参考,不构成投资建议。

相关报道 · 相关报道 3 篇

  • news.cnyes.com · 09-15 07:21 KST

    ASML的High NA EUV设备获台积电、三星与SK海力士采用,巩固其在先进制程设备领域的垄断地位。对海力士而言,导入High NA有助提升下一代DRAM与HBM竞争力,但资本开支上升或压制短期利润率,股价影响偏中性。

  • calcalistech.com · 09-14 20:53 KST

    英特尔对ASML高价光刻机投下信任票,显示先进制程投资持续。对SK海力士而言,设备需求回暖暗示存储芯片资本开支周期改善,但短期股价影响有限,需关注后续订单落地。

  • manufacturing.economictimes.indiatimes.com · 09-14 18:40 KST

    经济时报报道,ASML的High NA极紫外光刻机正获客户采用,进一步巩固其在先进芯片制造设备领域的主导地位。对SK海力士而言,先进光刻设备普及有助其推进下一代DRAM与HBM量产,但设备成本与资本开支压力亦需关注。