中關注2026-09-14短期 · 中性中長期 · 偏利多
ASML High NA 微影設備獲客戶採用，鞏固主導地位
ASML 宣布其 High NA EUV 微影設備獲客戶採用，進一步鞏固在先進晶片製造設備領域的主導地位。High NA 設備對 2 奈米以下邏輯晶片及下一代 DRAM 至關重要，SK 海力士等記憶體廠商未來需依賴該設備推進製程。短期對股價影響有限，但長期看，設備供應集中可能影響記憶體廠商的資本開支節奏與議價能力。
影響判斷由模型依據公開報導給出，僅供參考，不構成投資建議。
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- news.cnyes.com · 09-15 07:21 KST
ASML的High NA EUV設備獲台積電、三星與SK海力士採用，鞏固其在先進製程設備領域的壟斷地位。對海力士而言，導入High NA有助提升下一代DRAM與HBM競爭力，但資本開支上升或壓制短期利潤率，股價影響偏中性。
- calcalistech.com · 09-14 20:53 KST
英特爾對ASML高價光刻機投下信任票，顯示先進製程投資持續。對SK海力士而言，設備需求回暖暗示存儲晶片資本開支週期改善，但短期股價影響有限，需關注後續訂單落地。
- manufacturing.economictimes.indiatimes.com · 09-14 18:40 KST
經濟時報報導，ASML的High NA極紫外光微影設備正獲客戶採用，進一步鞏固其在先進晶片製造設備領域的主導地位。對SK海力士而言，先進微影設備普及有助推進下一代DRAM與HBM量產，惟設備成本與資本支出壓力亦須留意。